సమాచారం మరియు ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్ రంగాలలో వేగవంతమైన అభివృద్ధి రసాయన మెకానికల్ పాలిషింగ్ (CMP) సాంకేతికత యొక్క నిరంతర నవీకరణను ప్రోత్సహించింది.పరికరాలు మరియు పదార్థాలతో పాటు, అల్ట్రా-హై-ప్రెసిషన్ ఉపరితలాల సముపార్జన అనేది అధిక సామర్థ్యం గల రాపిడి కణాల రూపకల్పన మరియు పారిశ్రామిక ఉత్పత్తిపై ఆధారపడి ఉంటుంది, అలాగే సంబంధిత పాలిషింగ్ స్లర్రీ తయారీపై ఆధారపడి ఉంటుంది.మరియు ఉపరితల ప్రాసెసింగ్ ఖచ్చితత్వం మరియు సామర్థ్య అవసరాల యొక్క నిరంతర మెరుగుదలతో, అధిక సామర్థ్యం గల పాలిషింగ్ మెటీరియల్‌ల అవసరాలు కూడా ఎక్కువగా పెరుగుతాయి.Cerium డయాక్సైడ్ మైక్రోఎలక్ట్రానిక్ పరికరాలు మరియు ఖచ్చితమైన ఆప్టికల్ భాగాల ఉపరితల ఖచ్చితమైన మ్యాచింగ్‌లో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడింది.
Cerium ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ పౌడర్ (VK-Ce01) పాలిషింగ్ పౌడర్ బలమైన కట్టింగ్ సామర్థ్యం, అధిక పాలిషింగ్ సామర్థ్యం, అధిక పాలిషింగ్ ఖచ్చితత్వం, మంచి పాలిషింగ్ నాణ్యత, క్లీన్ ఆపరేటింగ్ వాతావరణం, తక్కువ కాలుష్యం, సుదీర్ఘ సేవా జీవితం మొదలైన ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది మరియు విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. ఆప్టికల్ ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ మరియు CMP, మొదలైనవి ఫీల్డ్ చాలా ముఖ్యమైన స్థానాన్ని ఆక్రమించాయి.
సిరియం ఆక్సైడ్ యొక్క ప్రాథమిక లక్షణాలు:
సెరియా, సిరియం ఆక్సైడ్ అని కూడా పిలుస్తారు, ఇది సిరియం యొక్క ఆక్సైడ్.ఈ సమయంలో, సిరియం యొక్క విలువ +4, మరియు రసాయన సూత్రం CeO2.స్వచ్ఛమైన ఉత్పత్తి తెల్లటి హెవీ పౌడర్ లేదా క్యూబిక్ క్రిస్టల్, మరియు అపరిశుభ్రమైన ఉత్పత్తి లేత పసుపు లేదా పింక్ నుండి ఎరుపు-గోధుమ పౌడర్ వరకు ఉంటుంది (ఎందుకంటే ఇందులో లాంతనమ్, ప్రసోడైమియం మొదలైనవి ట్రేస్ మొత్తాలను కలిగి ఉంటాయి).గది ఉష్ణోగ్రత మరియు పీడనం వద్ద, సెరియా అనేది సిరియం యొక్క స్థిరమైన ఆక్సైడ్.Cerium +3 వాలెన్స్ Ce2O3ని కూడా ఏర్పరుస్తుంది, ఇది అస్థిరంగా ఉంటుంది మరియు O2తో స్థిరమైన CeO2ని ఏర్పరుస్తుంది.సిరియం ఆక్సైడ్ నీరు, క్షార మరియు ఆమ్లంలో కొద్దిగా కరుగుతుంది.సాంద్రత 7.132 g/cm3, ద్రవీభవన స్థానం 2600℃, మరిగే స్థానం 3500℃.
సిరియం ఆక్సైడ్ యొక్క పాలిషింగ్ మెకానిజం
CeO2 కణాల కాఠిన్యం ఎక్కువగా ఉండదు.దిగువ పట్టికలో చూపినట్లుగా, సిరియం ఆక్సైడ్ యొక్క కాఠిన్యం డైమండ్ మరియు అల్యూమినియం ఆక్సైడ్ కంటే చాలా తక్కువగా ఉంటుంది మరియు ఫెర్రిక్ ఆక్సైడ్‌తో సమానమైన జిర్కోనియం ఆక్సైడ్ మరియు సిలికాన్ ఆక్సైడ్ కంటే కూడా తక్కువగా ఉంటుంది.అందువల్ల సిలికేట్ గ్లాస్, క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ మొదలైన సిలికాన్ ఆక్సైడ్ ఆధారిత పదార్థాలను, తక్కువ కాఠిన్యం కలిగిన సెరియాతో యాంత్రిక దృక్కోణం నుండి మాత్రమే తొలగించడం సాంకేతికంగా సాధ్యం కాదు.అయినప్పటికీ, సిరియం ఆక్సైడ్ ప్రస్తుతం సిలికాన్ ఆక్సైడ్-ఆధారిత పదార్థాలను లేదా సిలికాన్ నైట్రైడ్ పదార్థాలను పాలిష్ చేయడానికి ఇష్టపడే పాలిషింగ్ పౌడర్.సిరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ యాంత్రిక ప్రభావాలతో పాటు ఇతర ప్రభావాలను కూడా కలిగి ఉందని చూడవచ్చు.సాధారణంగా ఉపయోగించే గ్రౌండింగ్ మరియు పాలిషింగ్ మెటీరియల్ అయిన డైమండ్ యొక్క కాఠిన్యం సాధారణంగా CeO2 లాటిస్‌లో ఆక్సిజన్ ఖాళీలను కలిగి ఉంటుంది, ఇది దాని భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాలను మారుస్తుంది మరియు పాలిషింగ్ లక్షణాలపై కొంత ప్రభావాన్ని చూపుతుంది.సాధారణంగా ఉపయోగించే సిరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ పౌడర్‌లలో కొంత మొత్తంలో ఇతర అరుదైన ఎర్త్ ఆక్సైడ్‌లు ఉంటాయి.ప్రాసియోడైమియం ఆక్సైడ్ (Pr6O11) కూడా ముఖ-కేంద్రీకృత క్యూబిక్ లాటిస్ నిర్మాణాన్ని కలిగి ఉంటుంది, ఇది పాలిషింగ్‌కు అనుకూలంగా ఉంటుంది, అయితే ఇతర లాంతనైడ్ అరుదైన ఎర్త్ ఆక్సైడ్‌లకు పాలిషింగ్ సామర్థ్యం ఉండదు.CeO2 యొక్క క్రిస్టల్ నిర్మాణాన్ని మార్చకుండా, అది ఒక నిర్దిష్ట పరిధిలో దానితో ఒక ఘన పరిష్కారాన్ని ఏర్పరుస్తుంది.అధిక-స్వచ్ఛత కలిగిన నానో-సెరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ పౌడర్ (VK-Ce01) కోసం, సిరియం ఆక్సైడ్ (VK-Ce01) యొక్క స్వచ్ఛత ఎక్కువ, పాలిషింగ్ సామర్థ్యం మరియు సుదీర్ఘ సేవా జీవితం, ప్రత్యేకించి హార్డ్ గ్లాస్ మరియు క్వార్ట్జ్ ఆప్టికల్ లెన్స్‌ల కోసం చాలా కాలం.సైక్లిక్ పాలిషింగ్ చేసినప్పుడు, అధిక స్వచ్ఛత సిరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ పౌడర్ (VK-Ce01) ఉపయోగించడం మంచిది.
సిరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ పౌడర్ యొక్క అప్లికేషన్:
సిరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ పౌడర్ (VK-Ce01), ప్రధానంగా గాజు ఉత్పత్తులను పాలిష్ చేయడానికి ఉపయోగిస్తారు, ఇది ప్రధానంగా క్రింది రంగాలలో ఉపయోగించబడుతుంది:
1. గ్లాసెస్, గ్లాస్ లెన్స్ పాలిషింగ్;
2. ఆప్టికల్ లెన్స్, ఆప్టికల్ గ్లాస్, లెన్స్ మొదలైనవి;
3. మొబైల్ ఫోన్ స్క్రీన్ గ్లాస్, వాచ్ ఉపరితలం (వాచ్ డోర్) మొదలైనవి;
4. LCD మానిటర్ అన్ని రకాల LCD స్క్రీన్;
5. రైన్‌స్టోన్స్, హాట్ డైమండ్స్ (కార్డులు, జీన్స్‌పై వజ్రాలు), లైటింగ్ బంతులు (పెద్ద హాలులో లగ్జరీ షాన్డిలియర్లు);
6. క్రిస్టల్ క్రాఫ్ట్స్;
7. జాడే యొక్క పాక్షిక పాలిషింగ్
ప్రస్తుత సిరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ ఉత్పన్నాలు:
సెరియం ఆక్సైడ్ యొక్క ఉపరితలం దాని ఆప్టికల్ గ్లాస్ యొక్క పాలిషింగ్‌ను గణనీయంగా మెరుగుపరచడానికి అల్యూమినియంతో డోప్ చేయబడింది.
అర్బన్ మైన్స్ టెక్ యొక్క సాంకేతిక పరిశోధన మరియు అభివృద్ధి విభాగం.లిమిటెడ్, CMP పాలిషింగ్ యొక్క సామర్థ్యం మరియు ఖచ్చితత్వాన్ని మెరుగుపరచడానికి పాలిషింగ్ కణాల సమ్మేళనం మరియు ఉపరితల మార్పు ప్రధాన పద్ధతులు మరియు విధానాలు అని ప్రతిపాదించారు.ఎందుకంటే కణ లక్షణాలను బహుళ-భాగాల మూలకాల సమ్మేళనం ద్వారా ట్యూన్ చేయవచ్చు మరియు ఉపరితల మార్పు ద్వారా పాలిషింగ్ స్లర్రీ యొక్క వ్యాప్తి స్థిరత్వం మరియు పాలిషింగ్ సామర్థ్యాన్ని మెరుగుపరచవచ్చు.TiO2తో డోప్ చేయబడిన CeO2 పౌడర్ యొక్క తయారీ మరియు పాలిషింగ్ పనితీరు పాలిషింగ్ సామర్థ్యాన్ని 50% కంటే ఎక్కువ మెరుగుపరుస్తుంది మరియు అదే సమయంలో, ఉపరితల లోపాలు కూడా 80% తగ్గుతాయి.CeO2 ZrO2 మరియు SiO2 2CeO2 మిశ్రమ ఆక్సైడ్‌ల యొక్క సినర్జిస్టిక్ పాలిషింగ్ ప్రభావం;అందువల్ల, కొత్త పాలిషింగ్ మెటీరియల్‌ల అభివృద్ధికి మరియు పాలిషింగ్ మెకానిజం గురించి చర్చకు డోప్డ్ సెరియా మైక్రో-నానో కాంపోజిట్ ఆక్సైడ్‌ల తయారీ సాంకేతికత చాలా ముఖ్యమైనది.డోపింగ్ మొత్తంతో పాటు, సంశ్లేషణ చేయబడిన కణాలలో డోపాంట్ యొక్క స్థితి మరియు పంపిణీ కూడా వాటి ఉపరితల లక్షణాలను మరియు పాలిషింగ్ పనితీరును బాగా ప్రభావితం చేస్తుంది.
వాటిలో, క్లాడింగ్ నిర్మాణంతో పాలిషింగ్ కణాల సంశ్లేషణ మరింత ఆకర్షణీయంగా ఉంటుంది.అందువల్ల, సింథటిక్ పద్ధతులు మరియు షరతుల ఎంపిక కూడా చాలా ముఖ్యమైనది, ముఖ్యంగా సరళమైన మరియు తక్కువ ఖర్చుతో కూడిన పద్ధతులు.హైడ్రేటెడ్ సిరియం కార్బోనేట్‌ను ప్రధాన ముడి పదార్థంగా ఉపయోగించి, అల్యూమినియం-డోప్డ్ సిరియం ఆక్సైడ్ పాలిషింగ్ కణాలు తడి ఘన-దశ యాంత్రిక రసాయన పద్ధతి ద్వారా సంశ్లేషణ చేయబడ్డాయి.యాంత్రిక శక్తి చర్యలో, హైడ్రేటెడ్ సిరియం కార్బోనేట్ యొక్క పెద్ద రేణువులను చక్కటి కణాలుగా విడదీయవచ్చు, అయితే అల్యూమినియం నైట్రేట్ అమ్మోనియా నీటితో చర్య జరిపి నిరాకార ఘర్షణ కణాలను ఏర్పరుస్తుంది.ఘర్షణ కణాలు సిరియం కార్బోనేట్ కణాలకు సులభంగా జతచేయబడతాయి మరియు ఎండబెట్టడం మరియు కాల్సినేషన్ తర్వాత, సిరియం ఆక్సైడ్ ఉపరితలంపై అల్యూమినియం డోపింగ్ సాధించవచ్చు.ఈ పద్ధతి సిరియం ఆక్సైడ్ కణాలను వివిధ రకాల అల్యూమినియం డోపింగ్‌తో సంశ్లేషణ చేయడానికి ఉపయోగించబడింది మరియు వాటి పాలిషింగ్ పనితీరును వర్గీకరించారు.సిరియం ఆక్సైడ్ కణాల ఉపరితలంపై తగిన మొత్తంలో అల్యూమినియం జోడించబడిన తర్వాత, ఉపరితల సంభావ్యత యొక్క ప్రతికూల విలువ పెరుగుతుంది, ఇది రాపిడి కణాల మధ్య అంతరాన్ని చేస్తుంది.బలమైన ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ వికర్షణ ఉంది, ఇది రాపిడి సస్పెన్షన్ స్థిరత్వం యొక్క మెరుగుదలను ప్రోత్సహిస్తుంది.అదే సమయంలో, కూలంబ్ ఆకర్షణ ద్వారా రాపిడి కణాలు మరియు సానుకూలంగా చార్జ్ చేయబడిన మృదువైన పొర మధ్య పరస్పర శోషణ కూడా బలోపేతం అవుతుంది, ఇది పాలిష్ చేసిన గాజు ఉపరితలంపై రాపిడి మరియు మృదువైన పొర మధ్య పరస్పర సంబంధానికి ప్రయోజనకరంగా ఉంటుంది మరియు ప్రోత్సహిస్తుంది. పాలిషింగ్ రేటు మెరుగుదల.